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美國MicroChem光刻膠有哪些地方適用
2020-11-21 15:58:29    閱讀:2264

MicroChem光刻膠也稱為光致抗蝕劑,是一種光敏材料,它受到光照后特性會(huì)發(fā)生改變。光刻膠主要用來將光刻掩膜版上的圖形轉(zhuǎn)移到晶圓片上。

  

  光刻膠有正膠和負(fù)膠之分。正膠經(jīng)過曝光后,受到光照的部分變得容易溶解,經(jīng)過顯影后被溶解,只留下未受光照的部分形成圖形;而負(fù)膠卻恰恰相反,經(jīng)過曝光后,受到光照的部分會(huì)變得不易溶解,經(jīng)過顯影后,留下光照部分形成圖形。

  

  負(fù)膠在光刻工藝上應(yīng)用早,其工藝成本低、產(chǎn)量高,但由于它吸收顯影液后會(huì)膨脹,導(dǎo)致其分辨率(即光刻工藝中所能形成小圖形)不如正膠,因此對(duì)于亞微米甚至更小尺寸的加工技術(shù),主要使用正膠作為光刻

  

  MicroChem光刻膠使用注意事項(xiàng):

  

  ①若腐蝕液為堿性,則不宜用正性光刻膠

  

 ?、诳垂饪虣C(jī)型式,若是投影方式,用常規(guī)負(fù)膠時(shí)氮?dú)猸h(huán)境可能會(huì)有些問題

  

 ?、圬?fù)性膠價(jià)格成本低,正性膠較貴

  

 ?、芄に嚪矫妫贺?fù)性膠能很好地獲得單根線,而正性膠可獲得孤立的洞和槽

  

  ⑤健康方面:負(fù)性膠為有機(jī)溶液處理,不利于環(huán)境;正性膠屬于水溶液,對(duì)健康、環(huán)境無害


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